紫外域で高性能の多層膜をつくるためには、紫外域でも吸収の少ない物質を選びます。しかし蒸着法でこのような物質を成膜すると、一般的に他の波長帯で使用する多層膜に比べて耐久性の弱い膜となります。当社ではこの問題を解決するため紫外域での多層膜を対象としたスパッタリング専用装置を設計製作しました。その結果、耐久性だけではなく耐熱性や耐湿性もよい吸収の少ない多層膜の製造に成功しました。
数値データ(CSV形式)
高透過率はそのままに紫外域でのバンドパスフィルターを実現しました。ナロー(実績半値幅4nm程度)からブロードバンドパスまで作製可能です。
蒸着では不可能な阻止波長範囲と高ODが可能です。上図例では700nmまでOD3以上(透過率0.1%以下)となっています。
紫外域での高反射ミラーです。上図は45度S、P偏光反射率の平均値です。耐熱性に優れ高反射を実現しました。